無(wú)以倫比的控制和性能，具有固有的位移控制，位移范圍從<1nm to 150μm，業(yè)界**的力范圍從<1μN(yùn) to 3.5N，和78kHz的反饋速率和39kHz的數(shù)據(jù)采集速率，從而記錄各種瞬態(tài)事件。
**樣品臺(tái)技術(shù)，通過(guò)一個(gè)線性編碼器和兩種旋轉(zhuǎn)/傾斜臺(tái)配置實(shí)現(xiàn)可靠的和可重復(fù)的準(zhǔn)確樣品定位、性質(zhì)成像、原位FIB加工和包括EBSD, EDS, BSE, and TKD在內(nèi)的分析成像。
多功能，模塊化設(shè)計(jì)，支持幾乎所有的原位測(cè)試技術(shù)和選項(xiàng)，包括高溫、納米摩擦、電表征、納米動(dòng)態(tài)力學(xué)、壓轉(zhuǎn)拉測(cè)試、直接拉伸、高應(yīng)變率測(cè)試和掃描探針原位成像等。

Hysitron PI 89掃描電鏡聯(lián)用納米壓痕儀利用掃描電子顯微鏡（SEM、FIB/SEM）的**成像能力，可以在成像的同時(shí)進(jìn)行定量納米力學(xué)測(cè)試。這套全新系統(tǒng)搭載 Bruker **的電容傳感技術(shù)，繼承了**市場(chǎng)的**批商業(yè)化原位 SEM 納米力學(xué)平臺(tái)的優(yōu)良功能。該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)包括納米壓痕、拉伸、微柱壓縮、微球壓縮、懸臂彎曲、斷裂、疲勞、動(dòng)態(tài)測(cè)試和力學(xué)性能成像等功能。

先進(jìn)性能和功能

Hysitron PI 89掃描電鏡聯(lián)用納米壓痕儀的緊湊設(shè)計(jì)允許*大的樣品臺(tái)傾斜，以及測(cè)試時(shí)成像的*小工作距離。Hysitron PI 89掃描電鏡聯(lián)用納米壓痕儀為研究者提供了比競(jìng)爭(zhēng)產(chǎn)品更廣闊的適用性和性能：

• 重新設(shè)計(jì)的結(jié)構(gòu)增加適用性和易用性
• 1 nm精度的線性編碼器實(shí)現(xiàn)更大范圍下更好的自動(dòng)測(cè)試定位重復(fù)性
• 更高的框架剛度(~0.9 x 106 N/m)提供測(cè)試過(guò)程更好的穩(wěn)定性
• 兩種旋轉(zhuǎn)/傾斜模式實(shí)現(xiàn)城鄉(xiāng)、FIB加工、以及各種探測(cè)器的聯(lián)用，包括EDS, CBD, EBSD, and TKD等。

固有位移控制

Hysitron PI 89掃描電鏡聯(lián)用納米壓痕儀利用布魯克先進(jìn)的亞納米尺度傳感器和壓電力驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)真正的位移控制和載荷控制測(cè)試：

• 在固有位移控制模式中，壓電驅(qū)動(dòng)器實(shí)現(xiàn)預(yù)設(shè)位移率的位移控制，同時(shí)力傳感器測(cè)量力。
• 在真載荷控制模式下，力傳感器直接通過(guò)靜電力加載，同時(shí)通過(guò)三板電容測(cè)量位移。
• 傳感器的超低電流設(shè)計(jì)使得溫漂*小化，實(shí)現(xiàn)無(wú)比靈敏的載荷和位移測(cè)量。

與SEM成像和其它性能成像同步的原位力學(xué)測(cè)試

Hysitron PI 89掃描電鏡聯(lián)用納米壓痕儀獲得的原位力學(xué)測(cè)試結(jié)果與SEM成像同步且并列顯示。這使得用戶能觀察到缺陷、應(yīng)變、熱/電刺激對(duì)于工程材料性能、壽命和耐久性從納米到微米尺度的影響。這種同步實(shí)現(xiàn)更多的分析：

• 旋轉(zhuǎn)/傾斜樣品臺(tái)實(shí)現(xiàn)EBSD和力學(xué)性能成像聯(lián)用
• 能在力學(xué)性能測(cè)試前、后直接進(jìn)行FIB加工，而無(wú)需轉(zhuǎn)換腔體